Diffraktive optische Elemente (DOE)

mr-I 9000M series
OrmoClear® Series
UV-curable liquid silicone rubber / UV-PDMS

Trockenätzen (Ätzmaskierung für Halbleiter und Metalle)

Deep-UV Lithographie

ma-N 2400 & mr-EBL 6000 series

Lab-on-a-Chip

OrmoClear® Series
UV-curable liquid silicone rubber / UV-PDMS

Galvanoformen

Leuchtdioden (LED)

mr-I 9000M series
mr-NIL 6000E series
ma-N 400 & ma-N 1400 series
UV-curable liquid silicone rubber / UV-PDMS

Elektronenstrahl-Lithographie

ma-N 2400 & mr-EBL 6000 series

Nano- und Mikroelektronik

ma-N 2400 & mr-EBL 6000 series
mr-I 9000M series
mr-NIL 6000E series
mr-UVCur21 series
UV-curable liquid silicone rubber / UV-PDMS

Mikrofluidik und Mikro-Bio-Fluidik

OrmoClear® Series
UV-curable liquid silicone rubber / UV-PDMS

PVD-Verfahren (physical vapour deposition)

mr-I 9000M series
mr-NIL 6000E series
mr-UVCur21 series
ma-N 400 & ma-N 1400 series

Optische Wellenleiter

EpoCore & EpoClad Serien
OrmoCore and OrmoClad

Rolle-zu-Rolle Verfahren

Organische Elektronik

Thermischer Reflow

Strukturierte Saphir Substrate

Zwei-Photonen-Absorption Lithographie

Halbleiter-Bauelemente

ma-N 2400 & mr-EBL 6000 series
mr-I 9000M series
mr-NIL 6000E series
mr-UVCur21 series
ma-N 400 & ma-N 1400 series

UV Lithographie

Nanoimprint Arbeitsstempel

UV-curable liquid silicone rubber / UV-PDMS

UV Replikation

OrmoClear® Series
OrmoCore and OrmoClad
UV-curable liquid silicone rubber / UV-PDMS

Wafer-Level Optiken

Grauton Lithographie

Wire-Grid Polarisatoren

3D Mikrostrukturen

Inkjet-Printing

High-Aspect-Ratio Strukturen

Laser-Direct-Writing Lithographie

Lift-off Strukturierung

ma-N 400 & ma-N 1400 series

Nanoimprint Lithographie (thermisch) für Strukturübertragung

Nanoimprint Lithographie (thermisch) für Permanentanwendung

Nanoimprint Lithographie (UV- oder Photo-NIL) für Strukturübertragung

Nanoimprint Lithographie (UV- oder Photo-NIL) für Permanentanwendung

Nanoimprint Lithographie – kombinierte thermische und UV-NIL

mr-NIL 6000E series