Photo-NIL, UV-NIL

Bei dieser Nanoimprint-Technologie wird zuerst ein dünner NIL-Resistfilm auf einem Substrat abgeschieden. Das erfolgt beispielsweise durch Schleuderbeschichtung. Im nächsten Schritt wird ein nanostrukturierter Stempel bei Raumtemperatur unter geringem Druck in den noch flüssigen NIL-Resist gedrückt. Nach der vollständigen Füllung der Kavitäten des nanostrukturierten Stempels mit der flüssigen Formulierung wird der NIL-Resist durch Belichtung und dadurch induzierter photochemischer Härtung vernetzt. Durch abschließende Entformung des Stempels wird ein negatives Bild des Stempels auf das Substrat übertragen. In einem nachgelagerten Prozess erfolgt meist die Übertragung der geprägten Strukturen mittels Plasmaätzprozessen in das Substrat.

Die Resiste sind für unterschiedliche Beschichtungsmethoden geeignet.

  • Schleuderbeschichtung: mr-NIL210, mr-UVCur21, mr-XNIL26
  • Alternative Auftragungsmethoden, z.B. Inkjet-Dispensierung oder Gravurdruck: mr-UVCr26SF
Beispiel Produkt PDF Details
mr-NIL210 Serie
mr-UVCur21 Serie
mr-XNIL26 Serie
mr-UVCur26SF